GaN材料的研究與應(yīng)用是目前全球半導(dǎo)體研究的前沿和熱點(diǎn)，是研制微電子器件、光電子器件的新型半導(dǎo)體材料。GaN材料的制備主要采用氣相外延生長(zhǎng)的方法，石墨盤是外延生長(zhǎng)GaN晶體的必備耗材。由于石墨材料在高溫、腐蝕性氣體環(huán)境下會(huì)發(fā)生腐蝕掉粉現(xiàn)象，從而將粉體雜質(zhì)引入到單晶材料中。因此，涂覆高純度、均勻致密的保護(hù)涂層是解決該問題的唯一方法。經(jīng)化學(xué)氣相沉積碳化硅涂層后的石墨盤具有耐高溫、抗氧化、純度高、耐酸堿鹽及有機(jī)試劑等特性，滿足高純度單晶生長(zhǎng)環(huán)境的需要，國外已將其作為一種新耗材在MOCVD外延生長(zhǎng)設(shè)備上大規(guī)模使用，但國內(nèi)還沒有這一相關(guān)的產(chǎn)品。

      國防科技大學(xué)從2000年開始，一直致力于化學(xué)氣相沉積碳化硅涂層制備技術(shù)應(yīng)用研究，突破了碳化硅涂層制備的各項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，具備了大尺寸（直徑700mm）碳化硅涂層制備能力，獲得國家發(fā)明專利授權(quán)1項(xiàng)。本實(shí)驗(yàn)室制備的碳化硅涂層的特點(diǎn)是：（1）高溫抗氧化：溫度高達(dá)1600℃時(shí)抗氧化性能仍然非常好；（2）純度高、均勻、致密、顆粒細(xì)、無缺陷；（3）耐沖刷；（4）抗腐蝕性：耐酸、堿、鹽及有機(jī)試劑。該技術(shù)在石墨盤方面具有很好的推廣應(yīng)用前景。

     碳化硅涂層石墨盤是各半導(dǎo)體廠家必不可少的耗材，目前，該產(chǎn)品全部依賴進(jìn)口，價(jià)格昂貴，且受制于人。因此，本實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的碳化硅涂層石墨盤技術(shù)一旦實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，將對(duì)我國的半導(dǎo)體行業(yè)具有重要的戰(zhàn)略意義和市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)價(jià)值。